Țintă rotundă de titan

O țintă de acoperire este o sursă de pulverizare pulverizată pe un substrat pentru a forma filme funcționale prin pulverizare prin pulverizare cu magnetron sau alte sisteme de acoperire în condiții adecvate de proces. Adică, materialul țintă este materialul țintă al bombardamentului cu particule de energie de încărcare de mare viteză, utilizat în armele cu laser de înaltă energie, diferite densități de putere, diferite forme de undă de ieșire, diferite lungimi de undă ale laserului și diferite interacțiuni cu material țintă, va produce diferite efecte distrugătoare și dăunătoare.

Fabricarea țintelor de pulverizare cu titan include prepararea pulberii de materie primă, preîncălzirea, presarea la cald, prelucrarea și tratarea suprafeței. Pregătirea materiilor prime este cheia pentru asigurarea calității țintelor de pulverizare cu titan. Preîncălzirea și presarea la cald sunt pași importanți ai procesului pentru fabricarea țintelor de pulverizare de titan, prin care se obțin materiale uniforme și dense pentru a asigura proprietățile fizice și proprietățile chimice ale țintelor. Prelucrarea include tăierea, formarea și lustruirea. Tratarea suprafeței include curățarea, pasivarea, ambalarea etc.

Echipat cu proces avansat, care are un serviciu mai lung. Datorită performanței sale ridicate, ținta rotundă de titan joacă un rol important în dispozitivele de separare a semiconductoarelor, afișajele cu ecran plat, filmele cu electrozi de stocare, acoperirea pieselor de prelucrat, industria acoperirii sticlei etc.

Ținta rotundă din titan are o gamă largă de utilizări datorită intervalului de bandă mare, constantei dielectrice scăzute și stabilității temperaturii. Filmul subțire este pregătit în principal prin pulverizare cu magnetron, în care materialul țintă este o materie primă de bază importantă în procesul de acoperire prin pulverizare. Echipat cu tehnologie de pulverizare cu plasmă excelentă și supersonică, are o temperatură ridicată a sursei de căldură și o atmosferă de aer inert. Distanța de pulverizare este mică. Particulele zboară în jetul de plasmă cu viteză mare, mai puțin probabil să fie oxidate în mediu, cu avantaje pentru pulverizarea pulberii de titan ușor oxidabilă.

Punct de topire ridicat: punctul de topire al titanului este de 1668 de grade, astfel încât ținta de titan are o performanță excelentă la temperatură înaltă.

Rezistență bună la coroziune: titanul are o rezistență bună la coroziune și poate rezista coroziunii acizilor, alcalinelor și altor substanțe chimice, astfel încât poate fi utilizat în galvanizare, electroliză, acoperire cu vid și alte industrii.

Stabilitate bună: titanul este mai stabil din punct de vedere chimic și poate menține performanța stabilă în medii cu temperatură ridicată, presiune ridicată și gaz inert, astfel încât poate fi utilizat pentru a pregăti unele materiale la temperaturi ridicate, presiune înaltă și gaz inert.

Conductivitate electrică bună: ținta de titan este un bun conductor electric, astfel încât poate fi folosit pentru a pregăti componente electronice, celule fotovoltaice, dispozitive microelectronice etc. Aplicație: Separarea semiconductoarelor, materiale de acoperire cu peliculă, acoperire cu electrod de stocare, acoperire prin pulverizare, acoperire de suprafață, ochelari , electronică, optoelectronică, tehnologia informației, chimie, medicină și aerospațială.

Tag-uri populare: țintă rotundă de titan, China producători de ținte rotunde de titan, furnizori, fabrică, titan și titan, Plăcile din aliaj de titan, Titanium Flat Bar, Aliaj de titan medical, Ti 5al 5V 5MO 3CR, Aliaj de titan ti 6al 4v